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Aparelho de reação fotoquímica de alta pressão TPR-HP, Design de Reactor Fotoquímico

Aparelho de reação fotoquímica de alta pressão TPR-HP, Design de Reactor Fotoquímico

Descrição

Aparelho de reação fotoquímica de alta pressão TPR-HP, Design de Reactor Fotoquímico

1. Componentes principais: vaso de reação de aço inoxidável, conjuntos de PTFE, vidro de quartzo sob pressão, filtro, etc.

2.Customization: -120 ℃ ~ 300 ℃ Circulador de temperatura alta e baixa, dispositivo de proteção de gás de liberação de sobrepressão, peneira padrão de Taylor.

3.Este vaso de reator fotoquímico de alta pressão de tipo precisa usar junto com a fonte de luz da série TOP-X.

Reator fotoquímico de alta pressão TPR-HP.jpgArco curto xenon light source.jpg

Parâmetros técnicos do reator fotoquímico de alta pressão TPR-HP:

Modelo

TPR-HP150

TPR-HP300

TPR-HP500

TPR-HP1000

Tipo de fonte de luz

Xenon / lâmpada UV

Poder da fonte de luz

500W

500W

1000W

1500W

Vida útil da fonte de luz

1000H

1000H

1000H

1000H

Características da radiação

Ponto de origem

Ponto de origem

Ponto de origem

Ponto de origem

Diâmetro de irradiação

80MM

80MM

80MM

100MM

Sistema de refrigeração

3 radiadores fortes

Janela de luz de pressão

ter

Aparelho de agitação magnética

ter

Plataforma de elevação

ter

O material principal do recipiente de reação

Aço inoxidável 316L / (material de titânio puro / liga de Hastelloy ) opcional

Capacidade interna de PTFE de corrosão única

150ML

300ML

500ML

1000ML

Capacidade interna PTFE resistente a corrosão tipo revestimento (opcional)

150ML

300ML

500ML

1000ML

Pressão de design (opcional)

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

high pressure photochemical reactor 5 .jpg

high pressure photochemical reactor 1.jpg

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